樂(lè)基麻醉呼吸回路消毒系統(tǒng)DS501A
型號(hào)規(guī)格
DS50F、DS50E、DS50D、DS50C、DS503、DS503A、DS503B、DS503C、DS502、DS502A、DS502B、DS502C、DS501、DS501A、DS501B
結(jié)構(gòu)及組成/主要組成成分
麻醉呼吸回路消毒系統(tǒng)由臭氧發(fā)生裝置、霧化裝置、供氣系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、機(jī)架和空氣過(guò)濾器組成。
適用范圍/預(yù)期用途
供醫(yī)療單位對(duì)麻醉機(jī)呼吸機(jī)回路內(nèi)部消毒時(shí)使用。
適用機(jī)構(gòu)：綜合性醫(yī)院麻醉科、ICU、呼吸科、消毒供應(yīng)中心（CSSD）及基層醫(yī)療機(jī)構(gòu)。

核心技術(shù)特點(diǎn)
1.
智能化消毒流程

一鍵式操作：內(nèi)置程序自動(dòng)完成注液、霧化、消毒、干燥、排氣全過(guò)程，減少人工干預(yù)。
多模式選擇：支持 標(biāo)準(zhǔn)消毒（30-40分鐘）、 加強(qiáng)消毒（可選延長(zhǎng)至60分鐘）、 快速消毒（緊急周轉(zhuǎn)時(shí)用）。
2.
高效廣譜消毒劑適配

兼容性強(qiáng)：適用過(guò)氧化氫（H?O?）、過(guò)氧乙酸等主流低溫消毒劑，濃度自動(dòng)識(shí)別與配比。
微粒子霧化技術(shù)：消毒劑霧化粒徑≤5μm，確保管路內(nèi)壁及死角的充分滲透消殺。
3.
安全與環(huán)保設(shè)計(jì)

閉環(huán)循環(huán)系統(tǒng)：消毒劑循環(huán)利用率≥90%，減少化學(xué)殘留與環(huán)境污染。
三重過(guò)濾排風(fēng)：活性炭+HEPA過(guò)濾殘留消毒劑，排放符合職業(yè)衛(wèi)生安全標(biāo)準(zhǔn)（如OSHA限值）。
多級(jí)安全報(bào)警：門(mén)禁感應(yīng)、溫度/壓力超限、泄露監(jiān)測(cè)，保障操作人員安全。
4.
數(shù)字化管理

質(zhì)控追溯：內(nèi)置打印功能或USB數(shù)據(jù)導(dǎo)出，記錄消毒時(shí)間、消毒劑用量、操作者信息等，滿足院感監(jiān)測(cè)要求。
智能故障診斷：屏幕提示常見(jiàn)錯(cuò)誤代碼及解決建議，縮短停機(jī)時(shí)間。
技術(shù)參數(shù)（參考同類(lèi)設(shè)備推斷）
項(xiàng)目 參數(shù)
消毒容積 最大支持連接管路長(zhǎng)度≤3m
消毒時(shí)間 標(biāo)準(zhǔn)模式30-40min，加強(qiáng)模式60min
消毒劑用量 過(guò)氧化氫3-5ml/次（依管路長(zhǎng)度）
電源 220V/50Hz，功率≤800W
外形尺寸 600mm×500mm×1000mm（立式）
整機(jī)重量 ≈50kg（含消毒劑儲(chǔ)存罐）
樂(lè)基麻醉呼吸回路消毒系統(tǒng)DS501A

適用場(chǎng)景與優(yōu)勢(shì)
1.
麻醉科/ICU高頻需求：

快速周轉(zhuǎn)麻醉機(jī)呼吸回路，避免傳統(tǒng)浸泡消毒耗時(shí)問(wèn)題（傳統(tǒng)需2-6小時(shí)）。
適用于纖支鏡、喉罩等精密器械的低溫滅菌，延長(zhǎng)器械壽命。
2.
耐藥菌防控：

對(duì)MRSA、結(jié)核分枝桿菌、冠狀病毒等病原體殺滅率≥99.99%（需第三方檢測(cè)報(bào)告支持）。
3.
成本節(jié)?。?br/>
單次消毒成本低至10-20元（主要消耗為消毒劑），遠(yuǎn)低于一次性回路費(fèi)用。
操作流程示例
1.預(yù)處理：拆卸待消毒回路，清水沖洗表面污漬。
2.裝載連接：將回路接口與設(shè)備專(zhuān)用接頭密封對(duì)接。
3.模式選擇：按污染等級(jí)選擇程序，啟動(dòng)運(yùn)行。
4.完成提示：設(shè)備蜂鳴提醒，取出干燥無(wú)菌的回路備用。
對(duì)比傳統(tǒng)消毒方式優(yōu)勢(shì)
對(duì)比項(xiàng) DS501A 傳統(tǒng)浸泡/高溫滅菌
時(shí)間效率 30-60分鐘即用 2-6小時(shí)（含干燥）
器械兼容性 支持橡膠、硅膠、金屬部件 高溫易導(dǎo)致管路老化變形
人員風(fēng)險(xiǎn) 無(wú)接觸化學(xué)制劑，操作安全 手工清洗存在接觸感染風(fēng)險(xiǎn)
殘留控制 自動(dòng)中和排放，殘留≤1ppm 化學(xué)殘留需二次沖洗